原磊纳米成立于2018年9月，由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建，致力于成为高端国产半导体镀膜设备供应商。公司目前的主要产品是研发和量产型原子层沉积（ALD）设备。

       2019年12月，由南京原磊纳米材料有限公司自主研发的第一台ALD设备顺利开发完成并通过验收。
       公司目前员工100余人，其中技术人员占60%左右，拥有专利40余件。徐州子公司于2021年11月成立，拥有半导体行业内高标准的装配、测试和研发中心。公司致力于成为设备、材料、工艺环节中核心技术的开拓者；成为改变国内半导体设备领域格局的革新者。以薄膜生长设备设计理念为基础，以强大的半导体工艺和材料能力为驱动，坚持自主创新研发，不再受制于人，打造一个纯国产半导体设备的高端民族品牌。
       原磊纳米材料技始终秉承“专业、创新、诚信、责任”的宗旨，为半导体行业提供最满意的，最全面的真空镀膜设备及工艺解决方案。