活动预告| 徐州半导体薄膜沉积技术研讨会
- 分类:近期活动
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2022-01-03
- 访问量:0
【概要描述】为与业内同行合作交流并加快我国半导体技术发展,原磊纳米将携手徐州经开区于1月14日在徐州东区铂骊酒店举办徐州半导体薄膜沉积技术研讨会。
本次会议将向各位专家和同仁展示目前国产原子层沉积设备的最高技术水准及其在先进制程领域的应用;与此同时,原磊纳米自主研发的纯国产外延设备也即将面世。
产学结合 发展中国半导体产业
技术创新需要研发人员披荆斩棘,迎难直上,才可打破我国半导体受制于人的局面。此次会议邀请到我国在半导体薄膜技术上深耕多年的技术专家解读原子层沉积技术与集成电路的产业结合及新材料研发在半导体领域未来面临的机遇和挑战。同时,半导体行业龙头企业代表也将参与此会,与行业内同行进行深度交流。
面向未来 迈向资本赋能时代
自国家集成电路产业投资基金成立以来,我国投资界在半导体设备领域初露锋芒,成为赋能该领域的主要支撑。此次会议邀请到半导体行业内专业投资机构参会,与现场行业内技术人员交流。
公司简介
原磊纳米创立于2018年,总部位于南京,同时在徐州、新加坡均设有子公司。原磊秉承多年的工艺及半导体设备制造经验,自主设计国产高端半导体薄膜沉积设备,致力于实现我国半导体设备不受制于人的愿景。
活动预告| 徐州半导体薄膜沉积技术研讨会
【概要描述】为与业内同行合作交流并加快我国半导体技术发展,原磊纳米将携手徐州经开区于1月14日在徐州东区铂骊酒店举办徐州半导体薄膜沉积技术研讨会。
本次会议将向各位专家和同仁展示目前国产原子层沉积设备的最高技术水准及其在先进制程领域的应用;与此同时,原磊纳米自主研发的纯国产外延设备也即将面世。
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技术创新需要研发人员披荆斩棘,迎难直上,才可打破我国半导体受制于人的局面。此次会议邀请到我国在半导体薄膜技术上深耕多年的技术专家解读原子层沉积技术与集成电路的产业结合及新材料研发在半导体领域未来面临的机遇和挑战。同时,半导体行业龙头企业代表也将参与此会,与行业内同行进行深度交流。
面向未来 迈向资本赋能时代
自国家集成电路产业投资基金成立以来,我国投资界在半导体设备领域初露锋芒,成为赋能该领域的主要支撑。此次会议邀请到半导体行业内专业投资机构参会,与现场行业内技术人员交流。
公司简介
原磊纳米创立于2018年,总部位于南京,同时在徐州、新加坡均设有子公司。原磊秉承多年的工艺及半导体设备制造经验,自主设计国产高端半导体薄膜沉积设备,致力于实现我国半导体设备不受制于人的愿景。
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为与业内同行合作交流并加快我国半导体技术发展,原磊纳米将携手徐州经开区于1月14日在徐州东区铂骊酒店举办徐州半导体薄膜沉积技术研讨会。
本次会议将向各位专家和同仁展示目前国产原子层沉积设备的最高技术水准及其在先进制程领域的应用;与此同时,原磊纳米自主研发的纯国产外延设备也即将面世。
产学结合 发展中国半导体产业
技术创新需要研发人员披荆斩棘,迎难直上,才可打破我国半导体受制于人的局面。此次会议邀请到我国在半导体薄膜技术上深耕多年的技术专家解读原子层沉积技术与集成电路的产业结合及新材料研发在半导体领域未来面临的机遇和挑战。同时,半导体行业龙头企业代表也将参与此会,与行业内同行进行深度交流。
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公司简介
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