Elegant II-Y系列是原磊纳米的第二代研发型ALD/ALE设备，拥有完全的自主知识产权，符合CE标准，主要针对高校、科研院所和小批量生产客户。该系列采用双腔设计，从最大程度上保证了沉积的稳定性和源利用率；同时集成我司自主研发的传输系统，可实现一键操作，减少人工干预，降低污染的可能性。该系列还预留了数个升级端口，可同时实现等离子体增强和臭氧工艺，特别适合泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积。在化合物半导体领域，我司利用ALD技术开发出独特的处理工艺-即ISSET技术，能够大幅提升功率器件的电学性能。

原磊纳米的成熟量产型机台，在Elegant II-Y 系列的基础上加入了一个完全自主研发的全自动晶圆装载相传输系统，符合SEMI标准，可使用标准或用户自定义的Cassette一次性装载25片8/6英寸晶圆，因此非常适合中试或终试应用。装配精密步进马达和传感器的晶圆装载系统可精确实现晶圆定位和计数并配合机械手臂完成精准的晶圆取放。该系列同样采用了双腔设计和独立源入口，从而保证了源利用率并减少了交叉污染。数个升级端口可以使等离子体加强和热法工艺在同一个真空腔体中实现，工艺结束后能快速冷却，并可加装原位膜厚测量装置（椭偏仪），特别适合化合物半导体器件的量产。在化合物半导体领域，我司利用ALD技术开发出独特的处理工艺－即ISSET技术，能够大幅提升功率器件的电学性能。

原磊纳米拥有完全自主知识产权的高真空直动式传输门阀，适用于装载锁和真空工艺室隔离，广泛应用于真空镀膜设备、光电产业及其他集群真空系统。 密封装置具有快速启闭、较高的重复运行寿命以及高气密性等优点，在隔绝和连通各真空腔室时起到关键性作用。 优势- 密封性好和启闭快 特殊设计的气动驱动器能快速实现阀板开合和关闭，特制的密封件保证更可靠耐用的密封效果。 优势二 低发尘 更低的particle产生，精密的门板驱动设计使密封过程接近零摩擦，更有效的抑制颗粒的产生。 优势三 高安全性能 采用机械式所止机构在阀板闭合时锁定门板组件，有效避免外界因素导致的阀板误操作。 优势四 维护便利和长寿命 可更换波纹管，可通过顶部拆装门板，使用寿命可达100万次。

针对不同的ALD工艺，原磊自主创新设计的ALD前驱体钢瓶，包括冷源钢瓶、热源钢瓶以及双口热源钢瓶三种类型。这些钢瓶采用316L高纯不锈钢材质，容量范围广泛，从常规的100ml到600ml不等。同时，我们还可根据客户需求定制大容量钢瓶，其密封性能卓越，漏率低至1*10E-9 mbar*L/s，可广泛应用于ALD真空镀膜设备中。

原磊的Flura真空传输系列产品在严苛的设计标准和制造环境下诞生，确保设备在 Fab 中运行的高稳定性和高洁净度。其模块化的设计不仅缩小了占地面积，提升了扩展性，而且使快速应对各种布局需求成为了可能。

原磊自主设计和打造的工业通用12英寸晶圆自动传输团簇T9平台，洁净等级达到ISO class1，符合先进制程工艺需求，完全替代国外同类产品，多层精密镀膜一次成型，进而提高客户需求镀膜反应的效率与批次之间的重复性。

原磊纳米拥有完全自主知识产权的APC控压蝶阀，是一种集压力控制、运动结构、密封于一体的高真空阀门，其主要作用是通过自适应算法调整阀板的角度来控制、调节和隔离真空系统的气体流速和流量，从而实现真空设备再不同制程或工艺过程中气体流动和真空压力的精确调节和控制。

原磊纳米拥有完全自主知识产权的高真空软抽角阀，是真空系统中重要元件之一，非常适合需要精确校准的大流量真空场景。阀组由主阀和一个紧凑的旁路阀实现，旁路阀可通过调整轮精细调节软抽效果，适配非常宽的流导校准与调节，避免湍流和真空压力脉冲。

原磊自主设计的洁净间移动式单悬臂旋转吊车，适用于千百级无尘车间，可放置在设备机柜旁，其起重力矩为1000 N·m，底部支撑调节长度为500~1100mm，此装置稳定可靠、结构坚固，可大幅提升工作效率，降低劳动成本，是洁净间内不可或缺的助手。

原磊的 Tutra-200 / Tura-300 型真空传输系列产品在严苛的设计标准和制造环境下诞生，确保设备在 Fab 中运行的高稳定性和高洁净度。其模块化的设计不仅缩小了占地面积，提升了扩展性，而且使快速应对各种布局需求成为了可能。