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BAT 300 R2R
拥有自主知识产权的进气和加热方式,保证高均匀性;
独特的腔体结构,避免不同工艺间的交叉污染,方便维护;
模块化设计,可调整电、气位置,独立进样空间,兼容高洁净度生产空间;
一次性批量晶圆处理能力,降低生产和设备成本;
可兼容多种尺寸样品,升级方便;
目前全球性价比极高的工业机台。
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产品编号
所属分类
Batch系列
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产品描述
原磊纳米科技自主研发的双腔室设计,保证较高的前驱体利用率;
拥有自主知识产权的进气和加热方式,保证高均匀性;
独特的腔体结构,避免不同工艺间的交叉污染,方便维护;
模块化设计,可调整电、气位置,独立进样空间,兼容高洁净度生产空间;
一次性批量晶圆处理能力,降低生产和设备成本;
可兼容多种尺寸样品,升级方便;
目前全球性价比极高的工业机台。
关键词:
BAT P300 R2R
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