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EPI M300 系列

原磊纳米自主研发的低温选择性外延平台,在制造、能耗和生产效率上取得一些列突破性创新成果,并成为全球第三种加热灯管设计的外延设备。该设备可用于8/12英寸逻辑、存储和外延片等硅基同质、异质外延生长。设备的预真空腔采用双层设计,兼顾进样和冷却;工艺腔体配置公司自主研发的前处理系统,可实现更低衬底伤害下的高质量表面处理;传输系统在对晶圆抓取、摆放、升降和温控等进行创新优化后,可实现锗硅和硅外延工艺产能的大幅提升。该平台总共可配置2个前处理和4个EPI工艺腔体,能完全满足主流晶圆厂产能需求。
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产品描述

技术指标

●    晶圆尺寸:8/12英寸兼容

●    外延材料:硅、锗,可进行P型和N型掺杂

●    沉积方式:低压外延(选择性)、常压外延

●     处理能力:单片/工艺腔体,可配置2~4工艺腔体

●    工艺温度:RT~1200℃,可定制

●    真空系统:配备可抽H2干泵,精确控压

●    控制系统 :自主研发操作系统 + 触摸屏工控机

●    应用领域:先进制程逻辑、存储器、功率器件、MEMS、硅光器件、衬底材料

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