产品中心
PRODUCT CENTER
当前位置:
首页
/
/
Cluster 系列
浏览量:
1000

Cluster 系列

原磊纳米团簇式ALD设备,是集成电路先进工艺的关键薄膜沉积设备,基于自主研发的Elegant Cluster平台打造,主要应用于8 /12英寸逻辑、存储器件等生产制造,可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积需求。该设备实现了PE和Thermal工艺的无缝衔接,大幅提高了工艺稳定性和生产效率。其中,Thermal ALD工艺腔配置了plasma自清洁功能,有助于提高设备的可靠性和延长PM周期,进一步提升了性能和竞争力。该平台的各项工艺性能均达到了国际先进水平,并获得多方客户的肯定。
零售价
0.0
市场价
0.0
浏览量:
1000
产品编号
数量
-
+
库存:
0
1
产品描述

技术指标

●    晶圆尺寸:8/12英寸,可定制

●    工艺类型:PE、Thermal

●    装片能力:1片/腔,最大可定制10腔

●    工艺温度:RT~500°C,可定制

●    前驱源管路:单腔最大6路独立管路,可定制

●    适用工艺: AlO、HfO、AIN、TiIN、SiN、Ru、Co等氧化物、氮化物及金属

●    应用领域:先进逻辑、存储等晶圆制造领域

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加

推荐产品

搜索
搜索