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Advanced Cluster T3/T9 PE/TH ALD

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Advanced Cluster T3/T9 PE/TH ALD

Advanced ClusterM3/M9 PE/TH ALD系列是我司的团簇式 ALD 设备。该系列搭载独立控制的真空传输、标准 ALD 反应腔、进/取样腔和冷却腔可实现多功能材料和器件制备；同时通过热法和等离子体增强腔体的相互配合可以实现真空环境下完整器件的前处理、制备和后处理工艺。该系列适用于 28 / 14 nm 制程的 IC 逻辑芯片，3D NAND 及特殊记忆体。

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产品描述

技术指标

● 晶圆尺寸:8/12英寸,可定制

● 工艺类型:PE、Thermal

● 装片能力:1片/腔，最大可定制10腔

● 工艺温度:RT~500°C，可定制

● 前驱源管路:单腔最大6路独立管路,可定制

● 适用工艺: AlO、HfO、AIN、TiIN、SiN、Ru、Co等氧化物、氮化物及金属

● 应用领域:先进逻辑、存储等晶圆制造领域

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EPI M300 T3/T9 系列

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Compounds ALD Flura PC-10

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 门阀

原磊纳米拥有完全自主知识产权的高真空直动式传输门阀，适用于装载锁和真空工艺室隔离，广泛应用于真空镀膜设备、光电产业及其他集群真空系统。密封装置具有快速启闭、较高的重复运行寿命以及高气密性等优点，在隔绝和连通各真空腔室时起到关键性作用。优势- 密封性好和启闭快特殊设计的气动驱动器能快速实现阀板开合和关闭，特制的密封件保证更可靠耐用的密封效果。优势二低发尘更低的particle产生，精密的门板驱动设计使密封过程接近零摩擦，更有效的抑制颗粒的产生。优势三高安全性能采用机械式所止机构在阀板闭合时锁定门板组件，有效避免外界因素导致的阀板误操作。优势四维护便利和长寿命可更换波纹管，可通过顶部拆装门板，使用寿命可达100万次。

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