原磊纳米自主开发的团簇式ALD设备，应用于化合物半导体等领域量产客户。集成8~10个工艺腔体自主研发的VTM传输系统，配置2个冷却站，分别同时冷却5片晶圆配置2 loadlocks(25pcs/loadlock),自带内部自清洁功能，保障晶圆洁净工艺腔体本底压力低，极大控制氮化物膜层的氧含量独特工艺腔体设计，保证良好的温度场和流场特有等离子体处理技术，可有效减少高能离子对局部膜层的损伤维护便利，自带起重系统，极大减少系统组装、检修、维护时间。