SEMICON China 2026将于3月25日-3月27日在上海新国际博览中心举行。原磊纳米将在N1馆1431展位出展，我们将携高端半导体镀膜设备及工艺和材...
聚力攻坚前沿科技，赋能集成电路产业新突破 2025年12月23日上午，由南京原磊纳米材料有限公司作为揭榜单位的“国家原子级制造揭榜挂帅项目”启动仪式在...
江城创芯营扬帆起航，原磊纳米芯携手未来9月22日，在光谷青桐汇Ultra CPO与先进封装专场活动上，江城集成电路超级孵化器正式揭牌亮相。该孵化器由湖北江城实验...
SEMICON China 2025圆满落幕 南京原磊纳米材料有限公司展现国产半导体设备创新实力全球半导体行业盛会SEMICON China 2025于3月26...
原磊科普丨ALD工艺制备TiN薄膜 原子层沉积（ALD）工艺是一种基于自限性化学反应的薄膜沉积技术，能够精确控制薄膜的厚度和成分，广泛应用于高质量薄膜...
10月20日，由铜陵源和半导体科技有限公司主办，铜陵市经济技术开发区管委会协办的“第一届铜陵半导体精密零部件加工及表面处理技术研讨会”在铜陵市召开。 ...
关键要点 · 外延工艺允许在相同材料的衬底上生长更高纯度的膜层。· 在外延过程中，生长的方向由下面的基底晶体决定。· 外...
2024年1月13日，原磊纳米首台先进制程ALD团簇机台A300正式出厂交付客户，标志着原磊纳米在集成电路先进制程前道镀膜工艺实现了新的突破，并向着12英寸晶圆...
2024新年捷报|原磊纳米获评“南京市培育独角兽企业”称号 近日，南京市宏观经济研究中心独角兽瞪羚企业服务中心公布了2023年度南京市各类独角兽、瞪羚...
“2023值得关注的硬科技创变者50强“重磅发布，原磊纳米值得被关注 科技创新重塑产业格局，赋能商业价值。领先的国际创新生态服务平台创业邦，创业邦是领...
