南京原磊纳米材料有限公司

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南京原磊纳米材料有限公司

半导体镀膜设备供应商

核心价值观

专业、创新、诚信、责任

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关于我们

原磊纳米成立于2018年9月，由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建。公司主要提供原子层沉积（ALD）、原位表面等离子体增强（ISSET）等技术及相关精密加工服务。

子公司徐州原磊装配中心于2021年11月成立，拥有高标准的装配、测试和研发中心。

子公司江苏源和精密制造有限公司于2022年2月成立，拥有进口五轴加工中心及高精度三坐标仪，支撑半导体设备精密制造。

公司致力于成为拥有设备、材料、工艺、零部件等核心技术的半导体设备供应商，打造一个全生态内循环的半导体设备公司，专注于半导体镀膜设备的定制、研发、生产和销售。

作为革新者立足改变国内半导体设备制造的传统风格，以领先的薄膜设备设计理念为基础，强大的半导体工艺和材料能力为驱动，通过自主创新研发设备，让中国不再受制于人，打造一个纯国产半导体设备的民族自牌。

Grace Mx系列

GRACE-MX 是南京原磊纳米材料有限公司自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积（ALD）系统。采用独特的模块设计，通过对腔体和前驱源进气系统的优化，实现了超高的工艺稳定性，并支持全方位的工艺开发，包括在微机电系统、光学、化学和工业领域等的应用，且所开发的材料覆盖众多氧化物（例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等），可容纳样品尺寸最大300mm*300mm，针对不同领域的研发，最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。

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GRACE-MX 是南京原磊纳米材料有限公司自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积（ALD）系统。采用独特的模块设计，通过对腔体和前驱源进气系统的优化，实现了超高的工艺稳定性，并支持全方位的工艺开发，包括在微机电系统、光学、化学和工业领域等的应用，且所开发的材料覆盖众多氧化物（例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等），可容纳样品尺寸最大300mm*300mm，针对不同领域的研发，最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。

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 Elegant II-Y系列

Elegant II-Y系列是原磊纳米的第二代研发型ALD/ALE设备，拥有完全的自主知识产权，符合CE标准，主要针对高校、科研院所和小批量生产客户。该系列采用双腔设计，从最大程度上保证了沉积的稳定性和源利用率；同时集成我司自主研发的传输系统，可实现一键操作，减少人工干预，降低污染的可能性。该系列还预留了数个升级端口，可同时实现等离子体增强和臭氧工艺，特别适合泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积。在化合物半导体领域，我司利用ALD技术开发出独特的处理工艺-即ISSET技术，能够大幅提升功率器件的电学性能。

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