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公司简介
南京原磊纳米材料有限公司(简称“原磊纳米”)成立于2018年9月，由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建，致力于成为高端半导体镀膜设备供应商。公司产品主要涵盖原子层沉积(ALD)设备和硅锗外延(EPI)设备，可广泛应用于2.5D、3D先进封装、化合物半导体以及28nm以下先进制程逻辑存储工艺。全线产品对标海外大厂，领跑国内厂商，先后荣获高新技术企业、南京市培育独角兽企业、江苏省专精特新中小企业等荣誉。
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EPI M300 T3/T9 系列
原磊纳米自主研发的低温选择性外延平台，在制造、能耗和生产效率上取得一些列突破性创新成果，并成为全球第三种加热灯管设计的外延设备。该设备可用于8/12英寸逻辑、存储和外延片等硅基同质、异质外延生长。设备的预真空腔采用双层设计，兼顾进样和冷却；工艺腔体配置公司自主研发的前处理系统，可实现更低衬底伤害下的高质量表面处理；传输系统在对晶圆抓取、摆放、升降和温控等进行创新优化后，可实现锗硅和硅外延工艺产能的大幅提升。该平台总共可配置2个前处理和4个EPI工艺腔体，能完全满足主流晶圆厂产能需求。
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产品展示
PRODUCTS
公司主营业务：原子层沉积（ALD）和硅锗外延（EPI）机台研发销售、设备及工艺全解决方案、设备定制化服务以及材料光电学表征服务。凭借专业团队和技术创新，致力于为客户提供全方位、一站式的解决方案，助力客户实现高效生产和质量提升。
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SEMICON China 2025圆满落幕 南京原磊纳米材料有限公司展现国产半导体设备创新实力
全球半导体行业盛会SEMICON China 2025于3月26日至28日在上海新国际博览中心成功举办。本届展会汇聚了来自全球的顶尖专家学者、行业领袖及创新企业，共同探讨半导体技术的最新发展趋势。作为国产半导体设备领域的杰出代表，南京原磊纳米材料有限公司(以下简称“原磊纳米”)携其领先的原子层沉积和硅锗外延设备亮相，向全球展示了中国在高端半导体镀膜设备及工艺、材料整体解决方案方面的突破性成果。
第一届半导体精密零部件加工及表面处理技术研讨会
10月20日，由铜陵源和半导体科技有限公司主办，铜陵市经济技术开发区管委会协办的“第一届半导体精密零部件加工及表面处理技术研讨会”在铜陵市召开。
源启未来，和聚力量｜铜陵源和半导体科技有限公司开业庆典
10月21日，原磊迎来了发展过程中的又一重大里程碑——铜陵源和子公司的正式开业！这标志着原磊在半导体行业里再次迈出了坚实的一步。
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