原磊纳米
pic
搜索
搜索
img
请拖入内容到容器

公司简介

 

       南京原磊纳米材料有限公司(简称“原磊纳米”)成立于2018年9月,由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建,致力于成为高端半导体镀膜设备供应商。公司产品主要涵盖原子层沉积(ALD)设备和硅锗外延(EPI)设备,并为客户提供精密加工服务。全线产品对标海外大厂,领跑国内厂商,先后荣获科技型中小企业、高新技术企业、南京市培育独角兽企业等荣誉。

请拖入内容到容器
门阀
原磊纳米拥有完全自主知识产权的高真空直动式传输门阀,适用于装载锁和真空工艺室隔离,广泛应用于真空镀膜设备、光电产业及其他集群真空系统。 密封装置具有快速启闭、较高的重复运行寿命以及高气密性等优点,在隔绝和连通各真空腔室时起到关键性作用。 优势- 密封性好和启闭快 特殊设计的气动驱动器能快速实现阀板开合和关闭,特制的密封件保证更可靠耐用的密封效果。 优势二 低发尘 更低的particle产生,精密的门板驱动设计使密封过程接近零摩擦,更有效的抑制颗粒的产生。 优势三 高安全性能 采用机械式所止机构在阀板闭合时锁定门板组件,有效避免外界因素导致的阀板误操作。 优势四 维护便利和长寿命 可更换波纹管,可通过顶部拆装门板,使用寿命可达100万次。
更多 白箭头 黑箭头
上一页
1
2
15

产品展示

PRODUCTS

     公司主营业务:原子层沉积(ALD)和硅锗外延(EPI)机台研发销售、设备及工艺全解决方案、设备定制化服务以及材料光电学表征服务。凭借专业团队和技术创新,致力于为客户提供全方位、一站式的解决方案,助力客户实现高效生产和质量提升。 

请拖入内容到容器
原磊科普丨半导体制造中的外延(Epi)工艺
在完美的晶体基础层上构建集成电路或半导体器件是理想的选择。半导体制造中的外延(epi)工艺旨在在单晶衬底上沉积一层精细的单晶层,通常约为0.5至20微米。外延工艺是半导体器件制造中的一个重要步骤,尤其是在硅片制造中。
Details 白箭头 黑箭头
SEMICON China 2024 Pre-Event Exposure
南京原磊纳米材料有限公司(简称“原磊纳米”),将携高端半导体镀膜设备及工艺和材料集成解决方案参加这一国内顶级半导体的盛会,向行业伙伴展示公司最新的技术和产品。诚邀各位莅临展位,真诚地期待与业内同仁精诚合作、互利共赢!
Details 白箭头 黑箭头
原磊纳米荣获2024年度江苏省“专精特新”中小企业殊荣
专精特新中小企业是指具备专业化、精细化、特色化、新颖化特征的中小企业,这些企业通常具有高度的创新能力和市场竞争力,是推动经济发展的重要力量。
Details 白箭头 黑箭头
请拖入内容到容器

联系我们
CONTACT US

二维码

查看手机版

在线留言MESSAGES

留言应用名称:
首页留言
描述:
验证码

Copyright 南京原磊纳米材料有限公司

苏ICP备20022086号-1  网站建设:中企动力 南京 

请拖入内容到容器