原磊纳米
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公司简介

 

       南京原磊纳米材料有限公司(简称“原磊纳米”)成立于2018年9月,由具有近20年半导体设备、工艺研发经验的专业团队创建,致力于成为高端半导体镀膜设备供应商。公司产品主要涵盖原子层沉积(ALD)设备和硅锗外延(EPI)设备,并为客户提供精密加工服务。全线产品对标海外大厂,领跑国内厂商,先后荣获科技型中小企业、高新技术企业、南京市培育独角兽企业等荣誉。

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EPI M300 系列
原磊纳米自主研发的低温选择性外延平台,在制造、能耗和生产效率上取得一些列突破性创新成果,并成为全球第三种加热灯管设计的外延设备。该设备可用于8/12英寸逻辑、存储和外延片等硅基同质、异质外延生长。设备的预真空腔采用双层设计,兼顾进样和冷却;工艺腔体配置公司自主研发的前处理系统,可实现更低衬底伤害下的高质量表面处理;传输系统在对晶圆抓取、摆放、升降和温控等进行创新优化后,可实现锗硅和硅外延工艺产能的大幅提升。该平台总共可配置2个前处理和4个EPI工艺腔体,能完全满足主流晶圆厂产能需求。
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产品展示

PRODUCTS

     公司主营业务:原子层沉积(ALD)和硅锗外延(EPI)机台研发销售、设备及工艺全解决方案、设备定制化服务以及材料光电学表征服务。凭借专业团队和技术创新,致力于为客户提供全方位、一站式的解决方案,助力客户实现高效生产和质量提升。 

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第一届半导体精密零部件加工及表面处理技术研讨会
10月20日,由铜陵源和半导体科技有限公司主办,铜陵市经济技术开发区管委会协办的“第一届半导体精密零部件加工及表面处理技术研讨会”在铜陵市召开。
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源启未来,和聚力量|铜陵源和半导体科技有限公司开业庆典
10月21日,原磊迎来了发展过程中的又一重大里程碑——铜陵源和子公司的正式开业!这标志着原磊在半导体行业里再次迈出了坚实的一步。
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原磊科普丨半导体制造中的外延(Epi)工艺
在完美的晶体基础层上构建集成电路或半导体器件是理想的选择。半导体制造中的外延(epi)工艺旨在在单晶衬底上沉积一层精细的单晶层,通常约为0.5至20微米。外延工艺是半导体器件制造中的一个重要步骤,尤其是在硅片制造中。
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