原磊荣获“IC Future 2023年度芯势力产品奖”
- 分类：公司新闻
- 作者：原磊纳米人
- 来源：
- 发布时间：2023-08-02
- 访问量：0
【概要描述】2023年7月21日，在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场，我司凭借原子层沉积（ALD）镀膜设备Elegant II-Y系列产品，荣获“芯势力产品奖”!
原磊荣获“IC Future 2023年度芯势力产品奖”
【概要描述】2023年7月21日，在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场，我司凭借原子层沉积（ALD）镀膜设备Elegant II-Y系列产品，荣获“芯势力产品奖”!
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- 作者：原磊纳米人
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- 发布时间：2023-08-02
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2023年7月21日，在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场，我司凭借原子层沉积（ALD）镀膜设备Elegant II-Y系列产品，荣获“芯势力产品奖”!
图片来自世半会暨南京国际半导体博览会官方公众号
感谢主办方对原磊纳米的认可，及对原磊纳米ALD产品的肯定。我们必将乘势而上、锐意进取，打造一个全生态内循环的半导体设备公司，成为纯国产先进半导体设备的高端民族品牌。
“芯势力产品奖”旨在对半导体产业具有技术代表性、标志性、里程碑式的创新产品及技术，以及产品创新、技术创新和应用创新的先锋企业进行表彰。
Elegant II-Y系列是原磊纳米的第二代研发型ALD/ALE设备，拥有完全的自主知识产权，符合CE标准，主要针对高校、科研院所和小批量生产客户。
※ 该系列采用双腔设计，从最大程度上保证了沉积的稳定性和源利用率
※ 同时集成我司自主研发的传输系统，可实现一键操作，减少人工干预，降低污染的可能性。
※ 该系列还预留了数个升级端口，可同时实现等离子体增强和臭氧工艺。
※ 适合泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积。
※ 在化合物半导体领域，我司利用ALD技术开发出独特的处理工艺-即ISSET技术，能够大幅提升功率器件的电学性能。
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