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原磊荣获“IC Future 2023年度芯势力产品奖”

原磊荣获“IC Future 2023年度芯势力产品奖”

  • 分类:公司新闻
  • 作者:原磊纳米人
  • 来源:
  • 发布时间:2023-08-02
  • 访问量:0

【概要描述】2023年7月21日,在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场,我司凭借原子层沉积(ALD)镀膜设备Elegant II-Y系列产品,荣获“芯势力产品奖”! 

原磊荣获“IC Future 2023年度芯势力产品奖”

【概要描述】2023年7月21日,在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场,我司凭借原子层沉积(ALD)镀膜设备Elegant II-Y系列产品,荣获“芯势力产品奖”! 

  • 分类:公司新闻
  • 作者:原磊纳米人
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2023年7月21日,在2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会现场,我司凭借原子层沉积(ALD)镀膜设备Elegant II-Y系列产品,荣获“芯势力产品奖”! 

图片来自世半会暨南京国际半导体博览会官方公众号

 

感谢主办方对原磊纳米的认可,及对原磊纳米ALD产品的肯定。我们必将乘势而上、锐意进取,打造一个全生态内循环的半导体设备公司,成为纯国产先进半导体设备的高端民族品牌。

 

“芯势力产品奖”旨在对半导体产业具有技术代表性、标志性、里程碑式的创新产品及技术,以及产品创新、技术创新和应用创新的先锋企业进行表彰。

 

 

Elegant II-Y系列是原磊纳米的第二代研发型ALD/ALE设备,拥有完全的自主知识产权,符合CE标准,主要针对高校、科研院所和小批量生产客户。

※ 该系列采用双腔设计,从最大程度上保证了沉积的稳定性和源利用率

※ 同时集成我司自主研发的传输系统,可实现一键操作,减少人工干预,降低污染的可能性。

※ 该系列还预留了数个升级端口,可同时实现等离子体增强和臭氧工艺。

※ 适合泛半导体、化合物、特殊记忆体、MEMS和光学器件上的薄膜沉积。

※ 在化合物半导体领域,我司利用ALD技术开发出独特的处理工艺-即ISSET技术,能够大幅提升功率器件的电学性能。

 

 

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