新闻中心_新闻中心_南京原磊纳米材料有限公司

05-23 

在完美的晶体基础层上构建集成电路或半导体器件是理想的选择。半导体制造中的外延(epi)工艺旨在在单晶衬底上沉积一层精细的单晶层，通常约为0.5至20微米。外延工艺是半导体器件制造中的一个重要步骤，尤其是在硅片制造中。

03-08 

南京原磊纳米材料有限公司(简称“原磊纳米”)，将携高端半导体镀膜设备及工艺和材料集成解决方案参加这一国内顶级半导体的盛会，向行业伙伴展示公司最新的技术和产品。诚邀各位莅临展位，真诚地期待与业内同仁精诚合作、互利共赢!

05-07 

专精特新中小企业是指具备专业化、精细化、特色化、新颖化特征的中小企业，这些企业通常具有高度的创新能力和市场竞争力，是推动经济发展的重要力量。

04-29 

时光荏苒，岁月如梭，原磊公司自创立以来，已经走过了五个春秋。五年，对于一家企业来说，是成长的关键期，也是积累与沉淀的重要阶段。原磊公司在这五年里，始终秉持着“客户至上，诚信为本”的经营理念，不断追求卓越，努力创新，逐渐在行业中崭露头角，赢得了广大客户的信赖与支持。

04-19 

原磊纳米自成立以来，始终致力于纳米技术的研发与应用，承着专业、创新、诚信、责任的核心价值观，专注于ALD及EPI技术的研发、制造与推广，致力于为客户提供卓越的设备与解决方案，并为客户提供精密加工服务，全线产品对标海外大厂，领跑国内厂商。

08-08 

原磊纳米技术团队多年的工艺开发经验，公司从创业之初，就深入于钙钛矿领域相关材料的研究，目前客户端的ALD镀膜工艺取得了非常好的阶段性成果进展。