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Grace Mx系列
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Grace Mx系列

Grace-Mx 是南京原磊自主研发的第一代多层平板式原子层薄膜沉积(ALD)系统,符合CE标准。独特的模块设计、腔体和前驱源进气系统的优化,实现了超高的工艺稳定性。支持全方位的工艺开发,包括在集成电路、微机电系统、光学、化学和工业机械等领域中应用。所开发的材料覆盖众多氧化物(例如SiO2/SnO2/HfO2/Al2O3等)。针对不同领域的研发,最大可容纳样品尺寸及层数可根据客户需求量身定制。
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产品编号
所属分类
研究型机台
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1
产品描述

技术指标:
样品:最大样品尺寸300mm*300mm
工艺温度:RT~450℃,更高温度可定制高温模块。
前驱源管路:最大6路独立管路,可定制
低压源加热系统:包含源瓶和管路,RT~200℃
真空系统:高性能机械泵,可定制半导体级分子泵
生长模式:正常生长、停留生长
控制系统 :自主研发操作系统 + 触摸屏
电源: 50-60Hz, 380V/20A交流电源
均匀性:Al2O3非均匀性<±1%

 

关键词:
Grace-MX
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